铌靶材制备及主要用途!
钼(10%)铌合金溅射靶材在薄膜太阳电池和显示器中具有广阔的应用前景。但是,由于铌粉体在烧结过程中对氧的吸收,导致烧结后的钼铌坯体含氧量高、密度低。本次在CH4气氛下通过化学气相反应制备了铌碳包覆层的铌粉末。铌碳层不仅有助于阻止氧的吸收,而且可以在所需温度下与氧反应完全消耗掉。研究了制备方法、反应介质和反应参数对铌碳层性能的影响,确定了佳工艺条件为:温度600℃,反应时间270min,气压0.04mpa。用扫描电子显微镜、X射线光电子能谱、电子探针显微分析、拉曼光谱和原子力显微镜对镀层的表面形貌、化学成分、分布和均匀性进行了表征。用ONH和CS分析仪测定了氧和碳的含量。将表面改性铌粉与钼粉混合,真空烧结,得到含氧量190ppm,碳含量290ppm,相对密度93%的Mo-10%Nb坯料。该坯料的质量明显优于用非表面改性铌粉制备的坯料。
铌靶材的用途
作为铌及其合金膜的关键成分,铌溅射靶材用于彩色TFT LCD平板电脑,光学透镜,电子成像,信息存储,太阳能电池,玻璃涂层以及在耐腐蚀环境中,例如运输和化工生产领域。
如今,铌溅射靶材主要应用于先进的触摸屏,平板显示器和节能玻璃的表面涂层。在玻璃屏幕上具有防反射作用。
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